Exquis T4 Pro 全谱直读光谱仪

Exquis T4 Pro全谱直读光谱仪以其卓越的性能、稳定的品质、智能化的设计以及极高的性价比,成为了金属制造及加工企业的理想选择。采用了光室密封循环充氩技术,是一款高质量、紧凑型且价格合理的仪器,非常适合对各种金属样品(如铁基、铝基或铜基金属)中的元素含量进行常规分析,是金属制造及加工企业理想的选择。
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技术参数

TECHNICAL PARAMETERS

    1749028117192399.png  光学系统

    光学结构

    帕型-龙格 罗兰圆全谱充氩型光学系统

    1725607024465916.png  激发台

    电极

    分析间隙

    氩气流量

    钨材喷射电极

    4mm

    激发流量约3.5L/min,待机流量约0.1L/min

    1725607031160761.png  激发光源

    光源类型
    放电频率
    放电电流

    数字光源,高能预燃技术(HEPS)

    100-1000HZ
    最大400A

    1725607363164946.png  数据采集系统 

    探测器

    其他功能

    高性能CMOS阵列(4096像素)

    光室温度,软件自动控制压力,通讯监测

    1748479788213192.png  性能指标 

    可检测基

    检测时间体

    Fe,Al,Cu,Zn,Ni,Mg,Ti,Pb,Sn

    依据样品类型而定,一般20S左右

    1725607056103224.png  电源与环境要求

    工作电源
    工作功率

    AC220V 50/60Hz
    400W

    1725607059148478.png  尺寸与重量

    主机尺寸
    重量

    530*660*350mm

    约47Kg


仪器特点

INSTRUMENT FEATURES

    1749199734124965.png  光室密封循环充氩技术


    采用了先进的光室密封循环充氩技术,有效隔绝外界干扰,确保分析过程在纯净、稳定的环境中进行。

    1749199734124965.png  全元素覆盖


    配备低噪声的4096像素CMOS检测器,实现了对Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金属基体及非金属

    元素(N,C,S,P,B,As)的全谱分析。

    其卓越的紫外响应灵敏度,无需额外镀膜即可直接分析非金属元素

    1749199734124965.png  专利激发光源


    拥有专利的全数字高稳定性激发光源,频率最高可达1000Hz,能够根据不同材质自动匹配最佳激发条件,确保

    每次分析都能获得最优结果。

    1749199734124965.png  整体恒温屏蔽技术


    采用全新的整体恒温屏蔽技术,将温度控制精度提升至±0.1℃,确保光学系统在稳定、均匀的温度环境中工作。

    1749199734124965.png  智能加热及保温技术


    创新的智能全覆盖加热及保温技术使得冷机启动时间大幅缩短至30分钟,提高了整体运营效率。

    1749199734124965.png  曲线智能跳转技术


    创新的曲线智能跳转技术使得Exquis T4 Pro能够根据样品的分析值在后台智能选择最佳分析谱线,进一步提高

    了分析结果的准确性和精度,分析结果自动判断产品牌号。


产品应用

PRODUCT APPLICATION