Exquis T4 Pro 全谱直读光谱仪
技术参数
| 光学结构 | 帕型-龙格 罗兰圆全谱充氩型光学系统 |
| 电极 分析间隙 氩气流量 | 钨材喷射电极 4mm 激发流量约3.5L/min,待机流量约0.1L/min |
| 光源类型 | 数字光源,高能预燃技术(HEPS) 100-1000HZ |
| 探测器 其他功能 | 高性能CMOS阵列(4096像素) 光室温度,软件自动控制压力,通讯监测 |
| 可检测基 检测时间体 | Fe,Al,Cu,Zn,Ni,Mg,Ti,Pb,Sn 依据样品类型而定,一般20S左右 |
| 工作电源 | AC220V 50/60Hz |
| 主机尺寸 | 530*660*350mm 约47Kg |
仪器特点
| 采用了先进的光室密封循环充氩技术,有效隔绝外界干扰,确保分析过程在纯净、稳定的环境中进行。 | |
| 配备低噪声的4096像素CMOS检测器,实现了对Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金属基体及非金属 元素(N,C,S,P,B,As)的全谱分析。 其卓越的紫外响应灵敏度,无需额外镀膜即可直接分析非金属元素。 | |
| 拥有专利的全数字高稳定性激发光源,频率最高可达1000Hz,能够根据不同材质自动匹配最佳激发条件,确保 每次分析都能获得最优结果。 | |
| 采用全新的整体恒温屏蔽技术,将温度控制精度提升至±0.1℃,确保光学系统在稳定、均匀的温度环境中工作。 | |
| 创新的智能全覆盖加热及保温技术使得冷机启动时间大幅缩短至30分钟,提高了整体运营效率。 | |
| 创新的曲线智能跳转技术使得Exquis T4 Pro能够根据样品的分析值在后台智能选择最佳分析谱线,进一步提高 了分析结果的准确性和精度,分析结果自动判断产品牌号。 |